今回で３回目を迎えるこの技術展は、新しい化粧品原材料との出会いの場を提供し、企業同士が共同で、さらなる技術開発を行うきっかけとなることをめざして開催されています。
ここで日本製紙ケミカルは、フェイスパウダーや洗顔フォームの原材料として採用実績が伸びている「サンローズSLD」という製品を出展しました。
開催概要
CITE Japan 2007 第3回化粧品産業技術展
http://www.citejapan.info/ja/index.html
会期 ：2007年5月16日（水）〜18日（金）
会場 ：パシフィコ横浜（展示ホール）
主催 ：日本化粧品技術者会
入場料 ：１000円（招待券持参者は無料）
出展企業 ：日本製紙ケミカル（不二化成（株）ブースにて協同出展）
お問い合わせ先
日本製紙ケミカル（株） 営業本部第2営業部
〒102-0076 東京都千代田区五番町5-1
Tel. 03-5216-9080
http://npchem.co.jp/
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日本製紙ケミカルは、メイク・スキンケア向け分野での認知度をあげるとともに、この分野での新しい市場開拓の可能性を探っていきたいと考え、今回はじめて出展することにしました。
「サンローズSLD」は、日本製紙ケミカル独自の技術を用いて開発された超低置換度のカルボキシメチルセルロース（CMC）です。これは人体に無害で、緩やかな生分解性を有する、環境に優しい素材であるため、すでに食品、化粧品、日用品、建材、木材など、さまざまな用途で使用されています。
今回は、フェイスパウダーや洗顔フォームといった化粧品用途に絞り、本製品の用例、特徴を分かりやすくご紹介しました。とりわけ、化粧品分野において絶対条件である、「人体に無害である」という長所をアピールしました。
本展示会は、開催期間（３日間）累計で3万人以上の方々が訪れ、活気に溢れたイベントとなりました。私たちは今回が初めての出展でしたが、化粧品メーカーの技術者をメインターゲットに積極的なアピールを展開。「サンローズSLD」を配合したフェイスパウダーの試作品を実際に肌に塗って感触を体感してもらい、化粧品メーカーの方の生の声を聞くことができました。
今回の出展は、「サンローズSLD」の認知度アップだけでなく、今後の開発に活かせるようなご意見もいただけるなど、非常に有意義な機会となりました。